ענלעך צו גראַפענע, MXenes איז אַ מעטאַל קאַרבידע צוויי-דימענשאַנאַל מאַטעריאַל וואָס איז קאַמפּאָוזד פון לייַערס פון טיטאַניום, אַלומינום און טשאַד אַטאָמס, יעדער פון וואָס האט זיין אייגענע סטאַביל סטרוקטור און קענען לייכט רירן צווישן לייַערס.אין מערץ 2021, מאַזעראַ סטעיט אוניווערסיטעט פון וויסנשאַפֿט און טעכנאָלאָגיע און Argonne נאַשאַנאַל לאַבאָראַטאָריע דורכגעקאָכט פאָרשונג אויף MXenes מאַטעריאַלס און געפֿונען אַז די אַנטי-טראָגן און לובריקייטינג פּראָפּערטיעס פון דעם מאַטעריאַל אין עקסטרעם ינווייראַנמאַנץ זענען בעסער ווי טראדיציאנעלן ייל-באזירט לובריקאַנץ, און קענען זיין געוויינט ווי " "סופּער לובריקאַנט" צו רעדוצירן טראָגן אויף צוקונפֿט פּראָבעס ווי פּערסאַוויראַנס.
די ריסערטשערז סימיאַלייטיד די פּלאַץ סוויווע, און רייַבונג טעסץ פון דעם מאַטעריאַל געפונען אַז די רייַבונג קאָואַפישאַנט פון די MXene צובינד צווישן די שטאָל פּילקע און די סיליקאַ-קאָוטאַד דיסק געשאפן אין די "סופּערלובריקייטיד שטאַט" איז געווען אַזוי נידעריק ווי 0.0067 ווי נידעריק ווי 0.0017.בעסער רעזולטאַטן זענען באקומען ווען גראַפענע איז צוגעגעבן צו MXene.די אַדישאַן פון גראַפענע קענען נאָך רעדוצירן רייַבונג מיט 37.3% און רעדוצירן טראָגן מיט אַ פאַקטאָר פון 2 אָן אַפעקטינג די MXene סופּערלובריקיישאַן פּראָפּערטיעס.MXenes מאַטעריאַלס זענען געזונט צוגעפאסט צו הויך טעמפּעראַטור ינווייראַנמאַנץ, עפן נייַ טירן פֿאַר צוקונפֿט נוצן פון לובריקאַנץ אין עקסטרעם ינווייראַנמאַנץ.
די אַנטוויקלונג פּראָגרעס פון דער ערשטער 2nm פּראָצעס שפּאָן אין די פאַרייניקטע שטאַטן איז אַנאַונסט
אַ אָנגאָינג אַרויסרופן אין די סעמיקאַנדאַקטער אינדוסטריע איז צו פּראָדוצירן קלענערער, פאַסטער, מער שטאַרק און מער ענערגיע-עפעקטיוו מיקראָטשיפּס.רובֿ קאָמפּיוטער טשיפּס וואָס מאַכט דיווייסאַז הייַנט נוצן 10- אָדער 7-נאַנאָמעטער פּראָצעס טעכנאָלאָגיע, מיט עטלעכע מאַניאַפאַקטשערערז פּראָדוצירן 5-נאַנאָמעטער טשיפּס.
מאי 2021, יבם קאָרפּאָראַטיאָן פון די פאַרייניקטע שטאַטן מודיע די אַנטוויקלונג פּראָגרעס פון דער וועלט 'ס ערשטער 2 נם פּראָצעס שפּאָן.דער שפּאָן טראַנזיסטאָר אַדאַפּץ אַ דריי-שיכטע נאַנאָמעטער טויער אַלע אַרום (GAA) פּלאַן, ניצן די מערסט אַוואַנסירטע עקסטרעם אַלטראַווייאַליט ליטהאָגראַפי טעכנאָלאָגיע צו דעפינירן די מינימום גרייס, די טראַנסיסטאָר טויער לענג איז 12 נאַנאָמעטערס, די ינטאַגריישאַן געדיכטקייַט וועט דערגרייכן 333 מיליאָן פּער קוואַדראַט מילאַמיטער, און 50 ביליאָן קענען זיין ינאַגרייטיד.
די טראַנזיסטערז זענען ינאַגרייטיד אין אַ געגנט די גרייס פון אַ פינגערנייל.קאַמפּערד מיט די 7nm שפּאָן, די 2nm פּראָצעס שפּאָן איז געריכט צו פֿאַרבעסערן פאָרשטעלונג מיט 45%, רעדוצירן ענערגיע קאַנסאַמשאַן מיט 75% און קענען פאַרברייטערן די באַטאַרייע לעבן פון רירעוודיק פאָנעס מיט פיר מאָל, און די רירעוודיק טעלעפאָן קענען זיין קאַנטיניואַסלי געניצט פֿאַר פיר טעג. מיט בלויז איין אָפּצאָל.
אין אַדישאַן, די נייַע פּראָצעס שפּאָן קענען אויך שטארק פֿאַרבעסערן די פאָרשטעלונג פון העפט קאָמפּיוטערס, אַרייַנגערעכנט ימפּרוווינג די אַפּלאַקיישאַן פּראַסעסינג מאַכט פון העפט קאָמפּיוטערס און די גיכקייַט פון אינטערנעט אַקסעס.אין זיך-דרייווינג קאַרס, 2nm פּראָצעס טשיפּס קענען פֿאַרבעסערן די אַבדזשעקטיווז דיטעקשאַן קייפּאַבילאַטיז און פאַרקירצן ענטפער צייט, וואָס וועט שטארק העכערן די אַנטוויקלונג פון די סעמיקאַנדאַקטער פעלד און פאָרזעצן די לעגענדע פון מאָר ס געזעץ.יבם פּלאַנז צו מאַסע-פּראָדוצירן 2nm פּראָצעס טשיפּס אין 2027.
פּאָסטן צייט: Aug-01-2022